| infotek | 2024-10-22 14:11 |
線下課程——薄膜設計與鍍膜工藝（12月4~6日）時間地點 主辦單位：訊技光電科技（上海）有限公司；蘇州黌論教育咨詢有限公司 授課時間：2024年12月4 (三）-6（五）共3天 AM 9:00-PM 16:00 授課地點：上海市嘉定區(qū)南翔銀翔路819號中暨大廈18樓1805室 課程講師：訊技光電高級工程師&資深顧問 課程費用：4800RMB(課程包含課程材料費、開票稅金、午餐) 特邀專家介紹  易葵：中國科學院上海光機所正高級工程師，主要從事光學薄膜設計、制備工藝和測試相關方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空間激光薄膜、X射線多層膜、真空鍍膜技術與薄膜制備工藝研究等方面有較為深入的研究。獲得國家技術發(fā)明獎二等獎、上海市技術發(fā)明獎一等獎、上海市科技進步二等獎、軍隊科技進步二等獎等獎項，入選2014年度中科院“現(xiàn)有關鍵技術人才”。 課程簡介 隨著現(xiàn)代科技的飛速發(fā)展，光學薄膜的應用越來越廣泛。光學薄膜的發(fā)展極大地促進了現(xiàn)代光學儀器性能的提高，其種類非常廣泛，如增透膜，高反膜，分光膜，濾光片等，光學薄膜器件如今已經(jīng)廣泛應用到光通信技術、光伏產(chǎn)業(yè)技術、激光技術、光刻技術、航空航天技術等諸多領域。本次課程第一天主要為國際知名的光學薄膜分析軟件Essential Macleod的使用，第二天為各種類型的光學薄膜的設計模擬方法，前兩天主講人為訊技光電高級工程師，第三天特別邀請上海光學精密機械研究所專家易葵，分享光學薄膜制備工藝、激光薄膜關鍵技術以及光學薄膜的測量方法等相關內(nèi)容。  課程大綱 1. Essential Macleod軟件介紹1.1 介紹軟件 1.2 創(chuàng)建一個簡單的設計1.3 繪圖和制表來表示性能 1.4 通過剪貼板和文件導入導出數(shù)據(jù)1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） 1.6 特定設計的公式技術1.7 交互式繪圖 2. 光學薄膜理論基礎2.1 垂直入射時的界面和薄膜特性計算 2.2 后表面對光學薄膜特性的影響3. 材料管理 3.1 材料模型3.2 介質(zhì)薄膜光學常數(shù)的提取 3.3 金屬薄膜光學常數(shù)的提取3.4 基板光學常數(shù)的提取 4. 光學薄膜設計優(yōu)化方法4.1 參考波長與g 4.2 四分之一規(guī)則4.3 導納與導納圖 4.4 斜入射光學導納4.5 光學薄膜設計的進展 4.6 Macleod軟件的設計與優(yōu)化功能4.6.1 優(yōu)化目標設置 4.6.2 優(yōu)化方法（單一優(yōu)化，合成優(yōu)化，模擬退火法，共軛梯度法，準牛頓法，針形優(yōu)化，差分演化法）4.6.3 膜層鎖定和鏈接 5. 光學薄膜系統(tǒng)設計與分析案例與應用5.1 減反射薄膜 5.2 分光膜5.3 高反射膜 5.4 干涉截止濾光片5.5 窄帶濾光片 5.6 負濾光片5.7 非均勻膜與Rugate濾光片 5.8 仿生蛾眼/復眼結(jié)構(gòu)5.9 顏色膜 5.10 Vstack薄膜設計示例5.11 Stack應用范例說明 6. 薄膜性能分析6.1 電場分布 6.2 公差與靈敏度分析6.3 反演工程 6.4 均勻性，摻雜/孔隙材料仿真7. 真空技術 7.1 常用真空泵介紹7.2 真空密封和檢漏 8. 薄膜制備技術8.1 常見薄膜制備技術 9. 薄膜制備工藝9.1 薄膜制備工藝因素 9.2 薄膜均勻性修正技術9.3 光學薄膜監(jiān)控技術 10. 激光薄膜10.1 薄膜的損傷問題 10.2 激光薄膜的制備流程10.3 激光薄膜的制備技術 11. 光學薄膜特性測量11.1 薄膜光譜測量 11.2 薄膜光學常數(shù)測量11.3 薄膜應力測量 11.4 薄膜損傷測量11.5 薄膜形貌、結(jié)構(gòu)與組分分析  對此課程感興趣可以掃碼加微聯(lián)系[attachment=130513]
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