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光行天下 -> 光學薄膜設(shè)計,工藝與設(shè)備 -> H4沖氧不穩(wěn),應該怎么排除? [點此返回論壇查看本帖完整版本] [打印本頁]

bilong 2024-09-16 11:07

H4沖氧不穩(wěn),應該怎么排除?

我們有臺鍍膜機H4電子槍充氧量用的壓控,設(shè)計充到1.0-2,但每一鍋都不太穩(wěn)定,有時候充到7.5-3,有時候充到8.3-3,也有能充到1.0-2的,H4是手動熔的,一般就鍍普通AR,導致分光變來變?nèi),穩(wěn)定不住 ,請教大佬們,這種情況是藥里面雜質(zhì)多還是壓控控制系統(tǒng)有問題?應該怎么排除?
renlgj 2024-09-16 15:37
坐等分析
yzhuang 2024-09-20 09:09
控制軟件PID參數(shù)調(diào)整一下,一般是可以恒壓的,當然,如果放氣量很不穩(wěn)定也可能導致控制失敗 _b4fS'[  
度魔銀 2024-09-20 09:54
1.手動融料重復性不好 .1*DR]^`  
2鍍膜機真空度是否有漏氣現(xiàn)象 q:HoKJv4  
3.充氧控制改固定參數(shù) f'dK73Xof  
4.真空計污染導致真空不準確
bilong 2024-09-20 16:10
yzhuang:控制軟件PID參數(shù)調(diào)整一下,一般是可以恒壓的,當然,如果放氣量很不穩(wěn)定也可能導致控制失敗 P6OM)>C  
 (2024-09-20 09:09)  gv` h-b  
712=rUI%!  
感謝回復,我們這個只能設(shè)定數(shù)值,PID調(diào)不了
bilong 2024-09-20 16:12
度魔銀:1.手動融料重復性不好 L(Rorf~V  
2鍍膜機真空度是否有漏氣現(xiàn)象 j) <[j&OWw  
3.充氧控制改固定參數(shù) QW:Z[?39^  
4.真空計污染導致真空不準確 (2024-09-20 09:54)  h&'J+b  
Dpp@*xX>  
感謝回復,我們先定量充氧試試
ouyuu 2024-10-22 22:50
真空計和沖氧口的位置和距離很重要,如果壓力周期性波動的話,就調(diào)整真空計位置。 `w(sXkeaI  
但是現(xiàn)在看來好像是沖氧的壓控問題。 $ACe\R/%  
真空計一般是用電壓信號,要保證壓控儀和真空計用的電壓定義是一樣的。 {N@Y<=+:  
另外要排除信號干擾,如果真空信號受干擾了,那么肯定無法穩(wěn)定的進行控制。 K/A ? ]y  
最后一個應該就是壓控儀本身的問題,比如PID參數(shù)過大導致調(diào)節(jié)緩慢。 Uc>LFX& -B  
bilong 2024-10-23 10:02
ouyuu:真空計和沖氧口的位置和距離很重要,如果壓力周期性波動的話,就調(diào)整真空計位置。 C!oksI  
但是現(xiàn)在看來好像是沖氧的壓控問題。 SIJ# ?0,  
真空計一般是用電壓信號,要保證壓控儀和真空計用的電壓定義是一樣的。 qL u8!|QT  
另外要排除信號干擾,如果真空信號受干擾了,那么肯定無法穩(wěn)定的進行控制。 B1up^(?  
最后一個應 .. (2024-10-22 22:50)  /7S-|%1  
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