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光行天下 -> 光學薄膜設計,工藝與設備 -> H4沖氧不穩(wěn) [點此返回論壇查看本帖完整版本]

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bilong

2024-09-15 15:32

H4沖氧不穩(wěn)

我們有臺鍍膜機H4電子槍充氧量用的壓控，設計充到1.0-2，但每一鍋都不太穩(wěn)定，有時候充到7.5-3，有時候充到8.3-3，也有能充到1.0-2的，H4是手動熔的，一般就鍍普通AR,導致分光變來變去，穩(wěn)定不住，請教大佬們，這種情況是藥里面雜質多還是壓控控制系統(tǒng)有問題？應該怎么排除

度魔銀	2024-09-20 10:01
1.手動融料重復性不好 =KAN\|5yn 2鍍膜機真空度是否有漏氣現(xiàn)象 "!_vQ^y 3.充氧控制改固定參數(shù) m#ig.z\|A 4.真空計污染導致真空不準確

bilong	2024-09-20 16:07
度魔銀:1.手動融料重復性不好 .\|Yn[?( 2鍍膜機真空度是否有漏氣現(xiàn)象 GZHJ4\|DK 3.充氧控制改固定參數(shù) g7lPQ_A* 4.真空計污染導致真空不準確 (2024-09-20 10:01) x6$3KDQm bR1Q77<G\ 好的，我們朝這幾個方向試試，檢測過不漏氣，定量充氧真空度會不會差異很大

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