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TRCX:摻雜過程分析
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infotek
2024-02-29 08:10
TRCX:摻雜過程分析
在 LTPS 制造過程中,使用自對準掩模通過離子注入來金屬化有源層。當通過 TRCX 計算電容時,應用與實際工藝相同的原理。工程師可以根據(jù)真實的 3D 結構提取準確的電容,并分析有源層離子注入前后的電位分布,如下圖所示。
kOipH |.x
[attachment=126611]
(a)FIB
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AS|Rd+.
[attachment=126612]
(b) 摻雜前后對比
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