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infotek 2024-02-29 08:10

TRCX:摻雜過程分析

在 LTPS 制造過程中,使用自對準掩模通過離子注入來金屬化有源層。當通過 TRCX 計算電容時,應用與實際工藝相同的原理。工程師可以根據(jù)真實的 3D 結構提取準確的電容,并分析有源層離子注入前后的電位分布,如下圖所示。 kOipH |.x  
[attachment=126611]
(a)FIB .&iN(Bd  
AS|Rd+ .  
[attachment=126612]
(b) 摻雜前后對比
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