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wavelab86

2024-02-04 15:27

光學(xué)薄膜產(chǎn)生吸收損耗的主要因素

氧化物光學(xué)薄膜材料的應(yīng)用波段從紫外到中紅外，其吸收機(jī)制主要考慮電子躍遷吸收、吸收邊緣、雜質(zhì)和缺陷吸收、晶體振動吸收。

薄膜的吸收包括源材料雜質(zhì)吸收、材料本征吸收和鍍膜過程引入的吸收。由于目前鍍膜源材料都有很高的純度，源材料雜質(zhì)的吸收相對很小，可以忽略。