華海清科“一種用于CMP的光學測量裝置和化學機械拋光設備”

據(jù)國家知識產(chǎn)權(quán)局公告，華海清科股份有限公司取得一項名為“一種用于CMP的光學測量裝置和化學機械拋光設備”，授權(quán)公告號CN220389073U，申請日期為2023年7月。 sY:=bU^P  
專利摘要顯示，本實用新型公開了一種用于CMP的光學測量裝置和化學機械拋光設備，所述光學測量裝置包括：在線光學測量組件和參考光學測量組件，所述在線光學測量組件包括用于測量晶圓的非金屬膜厚的第一光學傳感器和第一窗口，所述參考光學測量組件包括用于獲得校準光強的第二光學傳感器、第二窗口、校準片和遮擋組件。 u}89v1._Jn