華為“光學(xué)裝置及頭顯設(shè)備”專利公布

據(jù)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局公告，華為技術(shù)有限公司取得一項(xiàng)名為“光學(xué)裝置及頭顯設(shè)備”，授權(quán)公告號(hào)CN220357330U，申請(qǐng)日期為2023年7月。 jYZWf `X~  
專利摘要顯示，本申請(qǐng)涉及光學(xué)領(lǐng)域，公開了一種光學(xué)裝置及頭顯設(shè)備。光學(xué)裝置包括第一超表面層、第二超表面層和第一襯底。第一襯底包括沿第一方向相背的第一側(cè)和第二側(cè)；第一超表面層在第一側(cè)，包括多個(gè)按第一周期排列的第一超表面單元，沿第一方向，每個(gè)第一超表面單元在投影面的投影為第一投影區(qū)域，投影面垂直第一方向；第二超表面層在第二側(cè)，包括多個(gè)按第一周期排列的第二超表面單元，沿第一方向，每個(gè)第二超表面單元在投影面的投影為第二投影區(qū)域；沿第一方向，第一超表面單元與第二超表面單元尺寸不同，第一投影區(qū)域和第二投影區(qū)域的大小形狀相同，且不重合，第一投影區(qū)域和第二投影區(qū)域的距離為0～λ/6，λ為光學(xué)裝置工作波長(zhǎng)。該光學(xué)裝置的光學(xué)效率佳。 .e+UgCwi