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infotek 2023-02-27 08:35

《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》(第二版 精裝)

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內(nèi)容簡介 OZ![9l  
Macleod軟件自帶的用戶手冊功能全面,其介紹涵蓋了軟件的方方面面,能夠使用戶快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而,為了順應(yīng)目前薄膜行業(yè)的需求,急需一本能夠契合軟件設(shè)計和實際加工需要的專業(yè)書籍,以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作,因此,我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》。 .oaW#f}0P  
《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》(原著第二版)是世界著名光學(xué)薄膜專家Macleod先生40多年豐富工作經(jīng)驗的總結(jié),結(jié)合當(dāng)前市場占有率極高的光學(xué)薄膜設(shè)計與分析軟件Essential Macleod,其內(nèi)容豐富,實用性強(qiáng)。書中不僅有成熟的光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)、計算公式和分析方法,還有關(guān)于光學(xué)薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計、分析、制造等各方面問題,如第8章中40個經(jīng)典案例分析。本書共設(shè)置21章節(jié),首先,從光學(xué)薄膜的基本理論出發(fā)(第2章),為大家介紹了設(shè)計一個薄膜所必備的基礎(chǔ)知識。其次,在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作,以幫助大家在較短的時間快速熟悉軟件操作界面。最后,從第9章至21章開始重點(diǎn)闡述軟件中的反演工程、提取光學(xué)常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實際相結(jié)合,從而使大家將理論知識與實際經(jīng)驗結(jié)合起來,對實際鍍膜提出實用的建議,以減少設(shè)計時間并降低生產(chǎn)成本。 /'TzHO9_`  
薄膜光學(xué)涵蓋范圍很廣,書中并附設(shè)計光盤和參考文獻(xiàn),有興趣者可依此深入研究,為精準(zhǔn)起見,在不影響理解的情況下,盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書能夠?qū)氖卤∧ば袠I(yè)的人員有所幫助,通過學(xué)習(xí)之后能夠較好地完成其所承擔(dān)的光學(xué)任務(wù)。然而由于個人能力之局限,書中錯誤紕漏之處在所難免,本書若有不周之處,尚請讀者不吝賜教。 @r+ErFI  
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訊技科技股份有限公司
2015年9月3日
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目錄 DcSL f4A  
Preface 1 ;l4rg!r(S  
內(nèi)容簡介 2 q,aWF5m@  
目錄 i %+gze|J  
1  引言 1 73Mh65  
2  光學(xué)薄膜基礎(chǔ) 2 Z:O24{ro5  
2.1  一般規(guī)則 2 P:(,l,}F8  
2.2  正交入射規(guī)則 3 $d,30hK  
2.3  斜入射規(guī)則 6 HQt=.#GW  
2.4  精確計算 7 XXuU@G6Z7$  
2.5  相干性 8 D G7FG--  
2.6 參考文獻(xiàn) 10 *: e^yi  
3  Essential Macleod的快速預(yù)覽 10 Y8m|f  
4  Essential Macleod的特點(diǎn) 32 %L/Wc,My  
4.1  容量和局限性 33 bxkp9o  
4.2  程序在哪里? 33 n3isLNvIp  
4.3  數(shù)據(jù)文件 35 <%>Q$b5  
4.4  設(shè)計規(guī)則 35 Y&Pi`E9=  
4.5  材料數(shù)據(jù)庫和資料庫 37 YOGw Q  
4.5.1材料損失 38 */nb%QV  
4.5.1材料數(shù)據(jù)庫和導(dǎo)入材料 39 q$:T<mFK$  
4.5.2 材料庫 41 $o/ ?R]h  
4.5.3導(dǎo)出材料數(shù)據(jù) 43 % eW>IN]5  
4.6  常用單位 43 5{,/m"-  
4.7  插值和外推法 46 K`(STvtM  
4.8  材料數(shù)據(jù)的平滑 50 4K0N$9pd:  
4.9 更多光學(xué)常數(shù)模型 54 R/ l1$}  
4.10  文檔的一般編輯規(guī)則 55 ,_u8y&<|I  
4.11 撤銷和重做 56 4xtbP\=   
4.12  設(shè)計文檔 57 O:xRUjpL  
4.10.1  公式 58 C<qJnB:B 9  
4.10.2 更多關(guān)于膜層厚度 59 JaG<.ki  
4.10.3  沉積密度 59 bi#o1jR  
4.10.4 平行和楔形介質(zhì) 60 l:j9lBS  
4.10.5  漸變折射率和散射層 60 Q&`$:h.~  
4.10.4  性能 61 9WtTUk  
4.10.5  保存設(shè)計和性能 64 )"t=sFxaB  
4.10.6  默認(rèn)設(shè)計 64 wC@4`h\U  
4.11  圖表 64 h!yF   
4.11.1  合并曲線圖 67 N+HN~'8r  
4.11.2  自適應(yīng)繪制 68 FEU$D\1y  
4.11.3  動態(tài)繪圖 68 -Zocu<Rs  
4.11.4  3D繪圖 69 Zp- Av8  
4.12  導(dǎo)入和導(dǎo)出 73 |