| infotek | 2022-12-05 08:44 |
JCMsuite應用：平面波入射非周期結構中的近場分布本教程示例遵循P. Lalanne等人[1]研究的基準問題設置[2]。同時演示了相同設置下的FEM性能�；鶞蕟栴}包括計算由平面波入射的孤立(即非周期)模式中的近場。該幾何結構由基板上銀膜中的孤立亞波長狹縫和銀膜中相鄰的平行凹槽組成。平面波垂直入射該裝置，并具有平面內電場極化(分別為面外磁場極化)。通過狹縫傳輸?shù)轿挥讵M縫下方特定距離的探測器區(qū)域的光的能量通量被檢測，并歸一化為通過狹縫的能量通量，在不存在凹槽的第二次模擬中計算。由于幾何、光源和材料的特性，等離子體效應導致了歸一化透射對物理參數(shù)的非常關鍵的依賴。這使得標準化傳輸?shù)臏蚀_計算成為具有挑戰(zhàn)性的基準問題。  狹縫槽設置（左）和用于歸一化的狹縫設置（右）的三角形網格；灰色：銀膜，藍色：基板，紅色：檢測器區(qū)域，綠色：空氣；請注意金屬角處網格的預細化。  計算后場強度，有有限元網格部分（右）和沒有限元網格部分（左）（頂行： 圖 ，底行： 圖 ，偽色標）。 | |