| infotek | 2021-09-23 09:36 |
結構設計和導出加工數(shù)據(jù)1.在VirtualLab中如何進行結構設計； 2.在VirtualLab中如何導入和導出加工數(shù)據(jù)。 結構設計 1) 點擊  ，打開示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2  2) 該示例文件包含處處振幅為1的純粹的相位分布，默認為振幅視圖. 點擊  ，將默認的振幅視圖轉(zhuǎn)換為相位視圖，點擊“結構設計(Structure Design)”開始設計可產(chǎn)生該相位分布的對應結構  3) 進入(基于薄元近似)的純相位透射結構設計系統(tǒng)窗口 目標(Target)標簽，可以選擇將設計好的結構設計元件放在新的LPD中還是已有的LPD中  光學設置(Optical Setup)標簽，在此標簽中選擇模式為透明板的高度輪廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可選擇基板介質(zhì)(Substrate Medium)和元件周圍的介質(zhì)(Surrounding Medium)，同時可以確定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波長（Wavelength）。  光學界面參數(shù)(Interface Parameters)標簽，在相位展開模式(Unwrapping Mode)中選擇不展開(None)，以及不進行強制分層(Enforce Quantization),即不產(chǎn)生離散界面，并選擇像素化的高度輪廓（最臨近點插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]對取樣光學界面進行插值   導出加工數(shù)據(jù) 1) 在LPD中雙擊生成的元件，可見設計好的結構是以雙界面元件(Double Interface Component，簡稱DIC)的形式保存的，而高度輪廓以取樣光學界面（Sampled interface）的形式保存，點擊編輯(Edit)  2) 進入取樣光學界面的編輯(Edit Sampled Interface)窗口，在結構(Structure)標簽上，選擇臨近點插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法進行高度輪廓插值，并進行3D預覽  3) 在取樣光學界面預覽(Preview of Sampled Interface)中，點擊鼠標右鍵，選擇精度(Accuracy)，將界面取樣精度設置為5，提高取樣光學界面的顯示精度   4) 進入界面高度離散化(Height Discontinuities)標簽，將離散高度階數(shù)(Discrete Height Levels)設置為8，通過工具(Tools)中的導出(Export)生成可用于光學界面加工的數(shù)據(jù)   5) 進入光學界面數(shù)據(jù)導出窗口 在一般(General)標簽進行如下圖所示的設置  | |