Runsheet和Monitorlink Enhancements
•對(duì)反射和透射監(jiān)控計(jì)算光學(xué)信號(hào) t;4{l`dk
•當(dāng)膜層沉積時(shí)，動(dòng)態(tài)加工因子（Dynamic Tooling Factors）可以不同 2^:5aABQ
•信號(hào)數(shù)據(jù)可以適應(yīng)自定義范圍 /Wj9Stj5
•對(duì)每個(gè)膜層，監(jiān)控波長(zhǎng)和帶寬都可以改變 Zd~Z`B} &
•對(duì)每個(gè)膜層可以用不同的校驗(yàn)芯片 M@gm.)d
•Monitorlink 可以將沉積設(shè)計(jì)反映到光學(xué)和晶體監(jiān)控上 a ]ftE\99
•監(jiān)控?cái)?shù)據(jù)的圖表可以為手動(dòng)監(jiān)控打印出來 @0)bY*njj
Runsheet和Monitorlink特點(diǎn) VTV-$Du[}
RUNSHEET操作 h\20
要建立一個(gè)runsheet, 在Essential Macleod中打開一個(gè)空白表格, 指定設(shè)計(jì)和機(jī)器配置，然后點(diǎn)Calculate。 Runsheet會(huì)自動(dòng)指定光源、使用加工因子，計(jì)算信號(hào)。用戶可以改變所以參數(shù)中任何一個(gè)，如指定光源、監(jiān)控芯片、波長(zhǎng)、帶寬。點(diǎn)擊Calculate，run sheet立即更新。除了計(jì)算機(jī)的容量以外，對(duì)膜層數(shù)、芯片數(shù)等沒有實(shí)際限制。 k@wxN!w;
Runsheet計(jì)算信號(hào)偏移的表格和曲線。通過可以應(yīng)用到單個(gè)膜層的0偏移和放大的控制，可以適應(yīng)自定義的范圍。根據(jù)信號(hào)的水平和最后一個(gè)峰－峰偏移的比例，表格中出現(xiàn)膜層終止信息。 oR5`-
直接修改監(jiān)控參數(shù)，所以在實(shí)際沉積以前可以評(píng)估不同的監(jiān)控計(jì)劃。Runsheet上的信息還可以拷貝到剪貼板，用于其它的處理和其它應(yīng)用格式。每個(gè)run sheet存成單獨(dú)的文件。重新調(diào)用時(shí)，Runsheet 檢查后續(xù)的材料數(shù)據(jù)或機(jī)器配置的任何變化，給出適當(dāng)?shù)木妗?/span> w-\GrxlbX
機(jī)器配置 |
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