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2021-06-08 10:29 |
用于微結(jié)構(gòu)晶片檢測(cè)的光學(xué)系統(tǒng)
摘要 4Z%Y"PL(K b&t[S[P.V 在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中,晶片檢測(cè)系統(tǒng)用于檢查晶片上的缺陷并找到它們的位置。為保證微結(jié)構(gòu)的圖像解析度,檢測(cè)系統(tǒng)常使用一個(gè)高NA的物鏡,工作在紫外波長(zhǎng)范圍。作為一個(gè)例子,模擬了一個(gè)完整的晶片檢測(cè)系統(tǒng),包括高NA聚焦效應(yīng)和光與微結(jié)構(gòu)的互作用,并演示了圖像的形成。 Q)6va}2ai B%b_/F]e 6&!l'[hU 建模任務(wù) ,w\ wQn>]K ILG?r9x ~w.2-D 結(jié)果 %jKH?%Ih el@XK}<dr :0Te4UE;P7 結(jié)果 =:5<{J OG !UNNjBBP7
.ewZV9P)t 結(jié)果 IRB& j%LA F3 f@9@b ep?:;98|t 文件信息 1i,4".h?M 3q~Fl=|.o
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