infotek |
2021-03-30 11:09 |
二元光柵設(shè)計流程
具有直壁或傾斜側(cè)壁的二元光柵已成為許多光學(xué)應(yīng)用中的關(guān)鍵部件。 感謝納米壓印技術(shù),使小尺寸的光柵的制造已經(jīng)變得可行。 VirtualLab Fusion采用內(nèi)置的傅里葉模態(tài)方法(FMM,也稱為RCWA)和不同的優(yōu)化算法,為二元光柵提供了完整的用戶友好的設(shè)計工作流程,和隨后的制造誤差分析,如圓邊效應(yīng)。 v>'mW ?{KC@c*c 高效偏振無關(guān)透射光柵的分析與設(shè)計 G}0fk]%\:
| |