| infotek | 2021-03-04 10:27 |
高數(shù)值孔徑(NA)物鏡的聚焦分析高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進(jìn)行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對稱現(xiàn)象。利用相機(jī)探測器和電磁場探測器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對矢量效應(yīng)的理解。  2. 建模任務(wù)  3. 概述 示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。  4. 光線追跡仿真 首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。 點(diǎn)擊“Go!”。 隨即獲得3D光線追跡結(jié)果  然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。 點(diǎn)擊“Go!”。 隨即獲得點(diǎn)列圖(2D光線追跡結(jié)果)。  5. 場追跡仿真 轉(zhuǎn)換到場追跡，并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。 點(diǎn)擊“Go!”。 | |