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2020-12-28 09:58 |
光學(xué)仿真軟件FRED應(yīng)用于側(cè)入光式的背光模塊
請問FRED這套軟件針對一般光源側(cè)入光式的背光模塊是否可以詳細(xì)仿真光源透過LGP上面油墨印刷后的光源軌跡(整個(gè)面的光均勻度)?LGP上會(huì)印刷光學(xué)級油墨點(diǎn)(Pattern),我們會(huì)控制Pattern直徑的大小,來控制整個(gè)背光模塊的均勻性,是否有側(cè)入光式的范例(LGP Pattern 光學(xué)仿真軌跡)? kqfO3{-;{: EencMi7J Ans:可以,光學(xué)仿真軟件-FRED可以進(jìn)行側(cè)入光式的背光模塊仿真分析。 >'^Tp7\ Pvq74?an` 如下圖,并且可利用ARRAY的方法快速的布置重復(fù)式網(wǎng)點(diǎn) 9"3 7va <0r2m4z ]E\o<"#t/ -lL(:drn 在FRED可以設(shè)定散射表面,而油墨本身就是一種散射表面,如下 P\B ]><!ep h|tdK;) IdsPB)k_ k[0Gz 光線追跡: P".CZyI-i 3?F*|E_ B 3Y,|* 也可以加上BEF片的模擬 9K`(Ys& *"\QR>n :nZVP_d+ 模擬結(jié)果 59;p| owDp?Sy}E iYi3x_A`
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