| infotek | 2020-07-17 17:31 |
分析高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦高數(shù)值孔徑物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場追跡分析。 通過光場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。 照相機(jī)探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應(yīng)。  建模任務(wù)  入射平面波 波長 2.08 nm 光斑直徑： 3mm 沿x方向線偏振 如何進(jìn)行整個系統(tǒng)的光線追跡分析？ 如何計算包含矢量效應(yīng)的焦點的強(qiáng)度分布？ 概覽 •樣品系統(tǒng)預(yù)設(shè)為包含高數(shù)值孔徑物鏡。 •接下來，我們將演示如何按照VirtualLab中推薦的工作流程對樣本系統(tǒng)進(jìn)行模擬。  光線追跡模擬 •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為模擬引擎。 •點擊Go！ •獲得3D光線追跡結(jié)果。  光線追跡模擬 •然后，選擇“光線追跡”（Ray Tracing）作為模擬引擎。 •單擊Go！ •結(jié)果，獲得點圖（2D光線追跡結(jié)果）。  光場追跡模擬 •切換到“第二代場追跡”（Field Tracing 2nd Generation）作為模擬引擎。 •單擊Go！  光場追跡結(jié)果（照相機(jī)探測器） •上圖僅顯示Ex和Ey場分量的強(qiáng)度。 •下圖通過整合Ex、Ey和Ez分量顯示強(qiáng)度：由于高數(shù)值孔徑情況下相對較大的Ez分量，可以看到明顯的不對稱性。  光場追跡結(jié)果（電磁場探測器） •通過使用電磁場探測器獲得所有電磁場分量。  | |