高數(shù)值孔徑(NA)物鏡的聚焦分析

高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對稱現(xiàn)象。利用相機探測器和電磁場探測器能夠?qū)�聚焦區(qū)域進行靈活全面的研究，進而加深對矢量效應(yīng)的理解。 DDWp4`CS|  
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2. 建模任務(wù) 8+&gp$a$  
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3. 概述 f'i6QMk\&  
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 示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 4aA9\\hfGY  
 下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。 Jb9F=s+  
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 首先，選擇“Ray Tracing System Analyzer”作為仿真引擎。 S{-f$Q*  
 點擊“Go!”。 8nodV 9
 
 隨即獲得3D光線追跡結(jié)果 >2u y  
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 然后，選擇“Ray Tracing”作為仿真引擎。 6W$rY] h!  
 點擊“Go!”。 !
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 隨即獲得點列圖(2D光線追跡結(jié)果)。 _!%M%  
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5. 場追跡仿真 SYeE) mI  
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 轉(zhuǎn)換到場追跡，并選擇“Field Tracing 2nd Generation”作為仿真引擎。 Fav^^vf*1  
 點擊“Go!”。 IqNpLh|[  
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