| 探針臺(tái) |
2020-01-09 11:37 |
半導(dǎo)體術(shù)語(yǔ)解釋 （六）
171) Pilot Wafer試作芯片 U`w `Cr
Pilot Wafer為試作芯片，并非生產(chǎn)芯片 (Prime Wafer)。在操作機(jī)器前，為了確定機(jī)器是否正常所作的試片，或機(jī)器作完維修、保養(yǎng)后所作的測(cè)試用芯片均稱(chēng)為Pilot Wafer, 由于Pilot Wafer 所作出來(lái)的結(jié)果將決定該批的制程條件，故處理Pilot Wafer時(shí)， 所抱持的態(tài)度必須和處理Prime Wafer一樣慎重。 G:k]tZ*`
172) Pin Hole 針孔 ?9I=XTR
在光阻制程所謂的針孔，就是在光阻覆蓋時(shí)，光阻薄膜無(wú)法完全蓋住芯片表面，而留有細(xì)小如針孔般的缺陷，在蝕刻制程時(shí)，很可能就被蝕刻穿透，而致芯片的報(bào)廢。 h:qt?$]J
在以往使用負(fù)光阻制程時(shí)，由于負(fù)光阻黏稠性較大，覆蓋較薄，因此，容易出現(xiàn)針孔，故有些層次(如 Contact)，必須覆蓋兩次，才能避免針孔的發(fā)生。目前制程大多使用正光阻，覆蓋較原，已無(wú)針孔的問(wèn)題存在，QC亦不做針孔測(cè)試。 m?4L>'
173) Piranha Clean過(guò)氧硫酸清洗 XNd%3rm,
過(guò)氧硫酸 (Peroxymonosulfuric Acid)又稱(chēng)為CARO's acid，其主要由硫酸加雙氧水反應(yīng)生成，反應(yīng)式如下: KDQqN]rg
H2SO4+H2O2 ＜＝＞H2SO5+H2O g E#4
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