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2019-05-30 14:49 |
VirtualLab:馬赫-曾德?tīng)柛缮鎯x
摘要 ZA#y)z8!E TY;U2.Ud
[attachment=93602] H'RL62! 干涉測(cè)量是一種光學(xué)計(jì)量的重要技術(shù)。 它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓,缺陷,機(jī)械和高精度熱變形等領(lǐng)域的測(cè)量。 作為一個(gè)典型的例程,在非序列場(chǎng)追跡的幫助下,我們?cè)赩irtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的馬赫-曾德?tīng)柛缮鎯x,本案例清楚地展示了光學(xué)元件的傾斜和移位對(duì)干涉條紋圖案的影響。 -jg (G
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