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光行天下 -> 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì),工藝與設(shè)備 -> 鍍完膜后發(fā)霧 [點(diǎn)此返回論壇查看本帖完整版本] [打印本頁]

liuwenbo1991 2018-10-17 10:21

鍍完膜后發(fā)霧

基材：SI片  膜料：GE+ZNS  鍍膜波段近紫外到14um，電子槍蒸發(fā)鍍膜，Mark II+離子源。鍍完膜后SI片發(fā)霧，通過調(diào)節(jié)鍍膜工藝（包括鍍膜溫度，材料沉積速率，離子源參數(shù)等等后依然發(fā)霧，哪位大咖有遇到過這種問題，幫忙解惑，謝謝
rexchou 2018-10-19 17:15
之前遇過發(fā)霧情況,是離子源被汙染到. Yt(FSb31H  
請參考~
ouyuu 2018-10-20 20:13
我覺得可能是MARKii離子源能量不夠造成的。 Y%"$v0D  
MARK II離子源的特性是電流很大，電壓不高。 0@zJa;z'  
離子束的密度（電流）夠了，但是離子速度（電壓）不夠的話， @r*GGI!  
結(jié)晶大小還是沒法改變。 G`0O5G:1  
"{D/a7]lC