yzhuang |
2018-10-10 16:47 |
MgF2的鍍膜參數(shù)討論
一般情況下,如果是一個超寬帶增透膜,就增透效果來說,最好的低折射率材料MgF2,但是關(guān)于MgF2的鍍膜,溫度基本上要300攝氏度左右最佳,參考資料是不能加離子源,300攝氏度鍍膜抽真空時間會變得較長,且如果高折射率材料是Ta2O5的話,對于使用電子槍蒸發(fā)而言,必須進行離子源輔助才會得到基本無吸收薄膜,如果高折射率材料是Ti3O5的話,300攝氏度可能會有結(jié)晶,吸收也有可能會增加。這就跟MgF2的鍍膜產(chǎn)生了沖突,我曾經(jīng)進行過加APS源嘗試,但無論怎么改變源的參數(shù),還是避免不了吸收,我想看看大家是怎么做的,希望能得到一個最佳的做法。
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