yzhuang:我一般是快速掃描轉(zhuǎn)圈預(yù)熔,功率設(shè)置比蒸鍍時功率稍大一點,預(yù)熔時充少量氧氣。 (2017-12-31 13:16) wQf-sk#
ouyuu:以40mm大小的坩堝舉例。 !.gIHY 先中心30s,再分12個點轉(zhuǎn)圈走3遍,每個點10s,然后在中心10s Llo"MO*sr 電流300mA~600mA左右,掃描大小以不飛濺為宜。一般光斑直徑為坩堝直徑的35%左右。 (2018-01-06 14:59) Vb_4f"
ouyuu:以40mm大小的坩堝舉例。 l_p2Riv 先中心30s,再分12個點轉(zhuǎn)圈走3遍,每個點10s,然后在中心10s GTd,n= 電流300mA~600mA左右,掃描大小以不飛濺為宜。一般光斑直徑為坩堝直徑的35%左右。 (2018-01-06 14:59) N6:`/f+A>T