日本护士XXXXHD少妇,中文字幕一区无码流出,亚洲美国产亚洲av <![CDATA[VirtualLab Fusion應(yīng)用：不規(guī)則孔徑光闌的仿真]]>

2. 在彈出的文件選擇界面選擇要導(dǎo)入的圖片，點(diǎn)擊打開


3. 選擇Data Array數(shù)據(jù)類型格式

4. 目標(biāo)圖案預(yù)覽

5. 設(shè)置圖片尺寸

6. 點(diǎn)擊Finish完成導(dǎo)入

7. 導(dǎo)入之后的數(shù)據(jù)還需要轉(zhuǎn)換為Transmission透過率函數(shù)格式，通過菜單欄Manipulations下的Conversion功能進(jìn)行數(shù)據(jù)類型轉(zhuǎn)換，先轉(zhuǎn)換為Harmonic Filed格式

8. 再轉(zhuǎn)換為Transmission格式

9. 選擇Stored Function元件，將透過率函數(shù)元件加載進(jìn)去作為孔徑光闌連接到光路中使用

10.驗(yàn)證光闌是否起作用，可以使用平面波經(jīng)過光闌查看光闌后面的場分布，這里未考慮衍射，可直接觀察到光闌的形貌
]]> <![CDATA[OptiSystem應(yīng)用：寬帶SOA特性]]> 本案例的目的是通過仿真表征半導(dǎo)體光放大器（SOA）。
首先，我們將描述SOA對輸入信號功率變化的響應(yīng)。
圖1顯示了仿真中使用的系統(tǒng)布局。將連續(xù)激光器的功率參數(shù)置于掃描模式下，在-40 ~ 10 dBm范圍內(nèi)變化。

圖1.SOA系統(tǒng)布局

信號增益和前向ASE總功率隨輸入信號功率變化曲線如圖2所示。
（a）信號增益隨輸入信號功率變化曲線
（b）總ASE功率隨輸入信號功率變化曲線
圖2.（a）信號增益和（b）SOA輸出處的ASE總功率變化曲線

在第二部分中，注入電流參數(shù)從30 mA到150 mA變化。輸入信號功率保持在- 30dbm。

圖3為仿真得到的信號增益結(jié)果。

圖3.信號增益隨注入電流變化曲線
最后，分析了輸入信號功率變化時(shí)噪聲譜的變化。在這種情況下，對前向噪聲進(jìn)行了分析。圖4顯示了4種不同輸入功率：-30 dBm、-20 dBm、-10 dBm和0 dBm時(shí)的頻譜。我們可以看到噪聲峰值功率隨著輸入信號功率的減小而增大。

  
圖4.不同輸入信號功率下的噪聲譜
]]> <![CDATA[VirtualLab Fusion應(yīng)用：F-Theta掃描透鏡的性能評估]]> 摘要
F-Theta透鏡通常用于基于掃描式的激光材料加工系統(tǒng)。使用這種透鏡，聚焦光斑沿目標(biāo)平面的位移與透鏡焦距和掃描角度的乘積成正比。然而，不存在完美的F-Theta系統(tǒng)，因此在任何給定的系統(tǒng)中，偏離理想行為的偏差都是可以預(yù)期的。借助快速物理光學(xué)建模和設(shè)計(jì)軟件VirtualLab Fusion中的掃描光源，通過測量不同角度下實(shí)際光斑位置與期望值之間的偏差，分析了給定F-Theta透鏡的性能。
建模任務(wù)
系統(tǒng)構(gòu)建塊-掃描源
系統(tǒng)構(gòu)建塊-透鏡系統(tǒng)組件
系統(tǒng)構(gòu)建塊-參數(shù)耦合
系統(tǒng)構(gòu)建塊-畸變分析儀
通用探測器和探測器附加組件
總結(jié)-組件…
系統(tǒng)查看
通過系統(tǒng)：​三維可視化，不同F(xiàn)oV模式可以通過顏色編碼來區(qū)分。此外，可以檢查場的軌跡，以便將探測器放置在正確的位置。
性能評估-光斑位置偏差
性能評估-光斑直徑測量
VirtualLab Fusion技術(shù)
]]> <![CDATA[VirtualLab Fusion應(yīng)用：氧化硅膜層的可變角橢圓偏振光譜（VASE）分析]]> 摘要

可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）是一種常用的技術(shù)，由于其對光學(xué)參數(shù)的微小變化具有高靈敏度，而被用在許多使用薄膜結(jié)構(gòu)的應(yīng)用中，如半導(dǎo)體、光學(xué)涂層、數(shù)據(jù)存儲、平板制造等。在本用例中，我們演示了VirtualLab Fusion中的橢圓偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂層上的使用。對于系統(tǒng)的參數(shù)，我們參考Woollam等人的工作 "可變角度橢圓偏振光譜儀（VASE）概述。I. 基本理論和典型應(yīng)用"，并研究該方法對輕微變化的涂層厚度有多敏感。
任務(wù)描述

鍍膜樣品

橢圓偏振分析儀

總結(jié) - 組件...

橢圓偏振系數(shù)測量
橢圓偏振分析儀測量反射系數(shù)（s-和p-極化分量）的比率𝜌，并輸出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根據(jù)

在VirtualLab Fusion中，復(fù)數(shù)系數(shù)𝑅p和𝑅s是通過應(yīng)用嚴(yán)格耦合波分析（RCWA），也被稱為傅里葉模態(tài)法（FMM）來計(jì)算。因此，在研究光柵樣品的情況下，這些系數(shù)也可以是特定衍射階數(shù)的瑞利系數(shù)。

橢圓偏振對小厚度變化的敏感性
為了評估橢偏儀對涂層厚度即使是非常小的變化的敏感性，對10納米厚的二氧化硅層和10.1納米厚的二氧化硅膜的結(jié)果進(jìn)行了比較。即使是厚度的微小變化，1埃的差異也高于普通橢圓偏振的分辨率（0.02°為𝑇，0.1°為𝛥*）。因此，即使是涂層中的亞納米變化也可以通過橢偏儀來測量。

* 數(shù)值根據(jù)Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999)
仿真結(jié)果與參考文獻(xiàn)的比較
被研究的SiO2層厚度變化為1埃時(shí)，𝛹和𝛥的差異。
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