蒸鍍機(jī)所用的 SiO2 有 O型環(huán) 與顆粒狀鋪灑在圓型坩鍋上的 _*sd#  
使用的EB 電流 有所差異 /?Y4C)G  
但不知道這兩種外型的SiO2 各有甚麼優(yōu)劣? `{
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請(qǐng)問各位前輩有甚麼建議嗎? fn7?g  
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應(yīng)該是一樣的，價(jià)格上有差異。鍍AR我們兩種都用過。

囊中蓄乾坤:應(yīng)該是一樣的，價(jià)格上有差異。鍍AR我們兩種都用過。 (2017-11-23 19:44) W<~u0AyO 3  

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這就是問題所在，材料本質(zhì)是一樣的，但價(jià)格有差異。 hb)8
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雖然我沒用過顆粒狀的，但我不認(rèn)為製程電流相同。 h}o
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鍍AR可能看不出差異，有鍍過長(zhǎng)製程 IR或UI嗎?

rexchou:這就是問題所在，材料本質(zhì)是一樣的，但價(jià)格有差異。
雖然我沒用過顆粒狀的，但我不認(rèn)為製程電流相同。
....... (2017-11-24 08:58)  0P4g6t}e  

mk3,ke8  
這個(gè)最多鍍到980nm，沒有什么差異，其他范圍到?jīng)]有試過。EB電流肯定會(huì)有差異的。之前做蘋果的AR用的是1-3顆粒的。

形狀不一樣，散熱不一樣，一樣電流下蒸發(fā)速率也不一樣。 Y\9zjewc  
顆粒狀的加料的人不一樣，可能高度，緊密度會(huì)有差異，從而穩(wěn)定性不如環(huán)形的。 -EWC3,3  
一般建議用環(huán)形。 <im<0;i&e  
%07vH&<C.  
顆粒狀的一般多在點(diǎn)狀坩堝用。 %Lfy!]Ru  
有的機(jī)型為了穩(wěn)定性，點(diǎn)狀坩堝都用塊狀的二氧化硅。

ouyuu:形狀不一樣，散熱不一樣，一樣電流下蒸發(fā)速率也不一樣。 ;!#IRR  
顆粒狀的加料的人不一樣，可能高度，緊密度會(huì)有差異，從而穩(wěn)定性不如環(huán)形的。 /Ca M(^W   
一般建議用環(huán)形。
顆粒狀的一般多在點(diǎn)狀坩堝用。 K,@} 'N  
....... (2017-11-26 00:59) agnEYdM_  

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您說(shuō)的很對(duì) _ IlRZ}