微透鏡陣列作為一種重要的光學元件，具有體積小、重量輕、集成度高的特點，吸引了大量的目光。伴隨著半導體工業(yè)的發(fā)展，光刻和微細加工技術的提高，自上世紀八十年代起，相繼出現(xiàn)了一系列嶄新的微透鏡陣列制作技術。由于透鏡陣列器件分為折射型微透鏡陣列和衍射型微透鏡陣列，它們在制作工藝也開發(fā)出不同的方法。 z`emKFbv  
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1.折射微透鏡的制作方法 b(PHZCy#  

QvG56:M3  
由于折射微透鏡陣列器件在聚光、準直、大面陣顯示、光效率增強、光計算、光互連及微型掃描等方面越來越廣泛的應用，它的制作工藝和方法得到了日益深入的研究。到目前為止，已經出現(xiàn)很多制備折射微透鏡陣列的方法，光刻膠熱回流方法、激光直寫方法、微噴打印法、溶膠一凝膠法、反應離子刻蝕法、灰度掩模法、熱壓模成型法、光敏玻璃熱成型法刪等。下面主要介紹幾種主流的微透鏡陣列制作方法。