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    [轉(zhuǎn)載]zemax技術(shù)問(wèn)題分享 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2016-11-30 , 來(lái)自群:ZEMAX軟件運(yùn)用群
    ZEMAX學(xué)習(xí)指南:技術(shù)問(wèn)題 dXkgWLI~  
    問(wèn)題1: 如何將一均勻出光之點(diǎn)光源改為具有高斯能量分布之點(diǎn)光源? c0J=gZiP  
    解答 2?",2x09  
    您需在System->General的Aperture標(biāo)簽中,在Apodization Type的下拉式選單中,選擇Gaussian,而Apodization Factor為定義高斯的能量衰減因子。 "2>I?  
    一般可依您的需求設(shè)1~4之間,不建議設(shè)罝大于4的值,因?yàn)檫@會(huì)造成采樣的光線數(shù)太少而無(wú)法計(jì)算出有意義的結(jié)果,您可參考Samples\Sequential\Interconnects\Ballcoupling.ZMX的ZEMAX例子檔。 A)5-w`1  
    \htL\m^$9  
    問(wèn)題 2:如何將點(diǎn)光源更改為面光源(直徑0.02mm之面光源)? :NB,Dz+i  
    解答: r52X}Y  
    您需在System->General的Aperture標(biāo)簽中,在ApertureType的下拉式選單中,將Object Space NA改為Entrance Pupil Diameter,并在ApertureValue的欄中鍵入0.02,最后還需將OBJ的Thickness改為Infinity,表示光源為無(wú)窮遠(yuǎn)的平行光入射。