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F'JY? J=W0Xi ! 【ZEMAX光學(xué)設(shè)計(jì)軟件操作說(shuō)明詳解】
cXnKCzSxZq #]]Su91BA 介紹
'?QuJFk i 這一章對(duì)本手冊(cè)的習(xí)慣用法和術(shù)語(yǔ)進(jìn)行說(shuō)明。ZEMAX使用的大部分習(xí)慣用法和術(shù)語(yǔ)與光學(xué)行業(yè)都是一致的，但是還是有一些重要的不同點(diǎn)。
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x[W 活動(dòng)結(jié)構(gòu)
yX!HZu;j 活動(dòng)結(jié)構(gòu)是指當(dāng)前在鏡頭數(shù)據(jù)編輯器中顯示的結(jié)構(gòu)。詳見(jiàn)“多重結(jié)構(gòu)”這一章。
:hRs`=d"r 角放大率
e>}}:Ud 像空間近軸主光線與物空間近軸主光線角度之比，角度的測(cè)量是以近軸入瞳和出瞳的位置為基準(zhǔn)。
!#2=\LUC 切跡
0aI;\D*Ts 切跡指系統(tǒng)入瞳處照明的均勻性。默認(rèn)情況下，入瞳處是照明均勻的。然而，有時(shí)入瞳需要不均勻的照明。為此，ZEMAX支持入瞳切跡，也就是入瞳振幅的變化。
FV39QG4b4 有三種類型的切跡：均勻分布，高斯型分布和切線分布。對(duì)每一種分布（均勻分布除外），切跡因素取決于入瞳處的振幅變化率。在“系統(tǒng)菜單”這一章中有關(guān)于切跡類型和因子的討論。
"O[j!fG8, ZEMAX也支持用戶定義切跡類型。這可以用于任意表面。表面的切跡不同于入瞳切跡，因?yàn)楸砻娌恍枰胖迷谌胪帯?duì)于表面切跡的更多信息，請(qǐng)參看“表面類型”這一章的“用戶定義表面”這節(jié)。
"2?l{4T\ 后焦距
&HW1mNF9 ZEMAX對(duì)后焦距的定義是沿著Z軸的方向從最后一個(gè)玻璃面計(jì)算到與無(wú)限遠(yuǎn)物體共軛的近軸像面的距離。如果沒(méi)有玻璃面，后焦距就是從第一面到無(wú)限遠(yuǎn)物體共軛的近軸像面的距離。
I 1Sa^7 基面
k c `V4b% 基面（又稱叫基點(diǎn)）指一些特殊的共軛位置，這些位置對(duì)應(yīng)的物像平面具有特定的放大率�；姘ㄖ髅妫瑢�(duì)應(yīng)的物像面垂軸放大率為＋1；負(fù)主面，垂軸放大率為－1；節(jié)平面，對(duì)應(yīng)于角放大率為+1；負(fù)節(jié)平面，角放大率為－1；焦平面，象空間焦平面放大率為0，物空間焦平面放大率為無(wú)窮大。
l _rn++ 除焦平面外，所有的基面都對(duì)應(yīng)一對(duì)共軛面。比如，像空間主面與物空間主面相共軛，等等。如果透鏡系統(tǒng)物空間和像空間介質(zhì)的折射率相同，那么節(jié)面與主面重合。
h#r^teui) ZEMAX列出了從象平面到不同象方位置的距離，同時(shí)也列出了從第一面到不同物方平面的距離。
& fC!(Oy 主光線
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36# 如果沒(méi)有漸暈，也沒(méi)有像差，主光線指以一定視場(chǎng)角入射的一束光線中，通過(guò)入瞳中央射到象平面的那一條。注意，沒(méi)有漸暈和像差時(shí)，任何穿過(guò)入瞳中央的光線也一定會(huì)通過(guò)光闌和出瞳的中心。
Kl{>jr8B3 如果使用了漸暈系數(shù)，主光線被認(rèn)為是通過(guò)有漸暈入瞳中心的光線，這意味著主光線不一定穿過(guò)光闌的中央。
I6!5Yj]O" 如果有瞳面像差（這是客觀存在的），主光線可能會(huì)通過(guò)近軸入
bx4'en# 瞳中心（如果沒(méi)有使用光線瞄準(zhǔn)）或光闌中央（如果使用光線瞄準(zhǔn)），但一般說(shuō)來(lái)，不會(huì)同時(shí)通過(guò)二者中心。
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