等離子體清洗設(shè)備的應(yīng)用
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e|}Gk *Tlv'E.M 應(yīng)用領(lǐng)域: r__M1
!3 1、清洗光學(xué)器件、電子元件、激光器件、鍍膜基片、芯片
2P=;r:cx • 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片
#n"/9%35f` • 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)
ivq4/Y]-X • 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石
ep!.kA=\ • 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板
0d2%CsMS"D • 清洗生物芯片、微流控芯片
9s)oC$\ • 清洗沉積凝膠的基片
S@#L!sT`u =jN]ckn 2、牙科領(lǐng)域:對(duì)硅酮壓模材料和鈦制牙移植物的預(yù)處理,增強(qiáng)其浸潤性和相容性
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