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    等離子體清洗設(shè)備在光學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用! [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2006-08-22
    等離子體清洗設(shè)備的應(yīng)用
    b2Hpuej  
    ;@ e |}Gk  
    *Tlv'E.M  
    應(yīng)用領(lǐng)域: r__M1 !3  
    1、清洗光學(xué)器件、電子元件、激光器件、鍍膜基片、芯片 2P=;r:cx  
      • 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片 #n"/9%35f`  
      • 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì) ivq4/Y] -X  
      • 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石 ep!.kA=\  
      • 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板 0d2%CsMS"D  
      • 清洗生物芯片、微流控芯片 9s)oC$\  
      • 清洗沉積凝膠的基片 S@#L!sT`u  
    =jN]ckn  
    2、牙科領(lǐng)域:對(duì)硅酮壓模材料和鈦制牙移植物的預(yù)處理,增強(qiáng)其浸潤性和相容性 9wC; m