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    [分享]整理英特爾14nm光刻技術簡報，光刻物鏡專利。 [復制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2014-08-15
    附件是一些英特爾近年來讓摩爾定律得以延續(xù)關鍵技術：三柵極3d晶體管技術和14nm光刻。同時獻上三篇蔡司光刻鏡頭專利，該專利和英特爾14nm技術的關聯(lián)性極小，從搜集情報來看英特爾所采購的光刻系統(tǒng)很有可能應用尼康的光刻物鏡。國內(nèi)光刻設備和光刻工藝和國際水準有巨大落差。工藝方面臺積電（TW）年內(nèi)有可能實現(xiàn)18nm-16nm工藝！中芯國際有可能實現(xiàn)28nm工藝，由高通提供相關幫助。 x>8}|ou