Macleod軟件應(yīng)用與光學(xué)薄膜制備、分析技術(shù) h7G"G"  
課程編號(hào)：cs0001 ]7W&JKmA&  
課程時(shí)間：2014年3月21日（五）-23日(日) AM 9:00-PM4:00 _{I3i:f9X8  
課程地點(diǎn)：上海市普陀區(qū)永登路277號(hào)金環(huán)匯智天地4樓 P+@/O  
課程形式：小班授課，通過(guò)理論結(jié)合實(shí)際方式講授與學(xué)員互動(dòng)式教學(xué)，教材與PPT同步教學(xué)。 Aza /6OL  
課程主講：訊技光電資深工程師 4Tb #fH%  
課程大綱 2b}t,&bv?  
Z]>O+  
1. Essential Macleod概況及其基本操作 6M @[B|Q(  
1.1 Macleod軟件特點(diǎn)介紹 }aa'\8  
1.2 程序快速入門 ZCMw3]*  
1.3 Macleod軟件基本框架及參數(shù)設(shè)置 '\l"   
2. 數(shù)據(jù)管理 j/323Za+  
2.1Macleod軟件中的數(shù)據(jù)類型 .F98G/s  
2.2數(shù)據(jù)的輸入與輸出 w1Nm&}V  
2.3Plot 、3D Plot與 Table操作技巧 2J7:\pR^  
3. 光學(xué)薄膜基本原理 (5$!MUS~9  
3.1介質(zhì)和波 D=q:*x  
3.2垂直入射時(shí)的界面和薄膜特性計(jì)算 'nzg6^I7g  
3.3傾斜入射時(shí)的界面和薄膜特性計(jì)算 1OG
x>J6  
3.4后表面對(duì)光學(xué)薄膜特性的影響 "%`1]Fr  
3.5光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)理論 >:74%D0UF  
4. 材料管理 w$3,A$8  
4.1光學(xué)薄膜材料性能及應(yīng)用評(píng)述 RuLi,'u  
4.2金屬與介質(zhì)薄膜 2%DSUv:H%  
4.3材料模型 epA:v|S  
4.4介質(zhì)薄膜光學(xué)常數(shù)的提取 NO*u9YH?  
4.5金屬薄膜光學(xué)常數(shù)的提取 j8v8uZ;x  
4.6基板光學(xué)常數(shù)的提取 /