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訊技光電Essential Macleod軟件應(yīng)用與光學(xué)薄膜項目管理課程(12月13-15)

發(fā)布:piaodongdewo 2013-12-09 11:01 閱讀:1378
主辦單位:訊技光電科技(上海)有限公司 < gB>j\:  
課程時間:2013年12月13日(五)-15日(日)AM 9:00-PM 4:00 l?v`kAMR  
課程地點:上海市徐匯區(qū)中漕路111號凱旋花苑1號樓403室 3IQ)%EN  
課程形式:小班授課,通過理論結(jié)合實際方式講授與學(xué)員互動式教學(xué),教材與PPT同步教學(xué)。 6*cG>I.Z  
課程講師:訊技光電顧問級工程師 rq?:I:0  
課程描述 |@? B%sY  
本課程系統(tǒng)地講授Essential Macleod軟件在光學(xué)鍍膜及其設(shè)計、特性和制作中的應(yīng)用,并對光學(xué)薄膜項目管理和生產(chǎn)管理的相關(guān)知識進行講解。涉及的內(nèi)容從基本原理到前沿課題,不僅有助于有光學(xué)薄膜從業(yè)經(jīng)驗的技術(shù)人員和管理人員進一步擴展他們在該領(lǐng)域的知識和技能,也適用于剛剛進入薄膜行業(yè)的初學(xué)者。 [` ~YPUR*  
課程特色 BoZ])Y6=  
1.具有吸引力的課程設(shè)置:2013年,在總結(jié)歷次Macleod軟件培訓(xùn)班的成功經(jīng)驗的基礎(chǔ)上,我們再次更改培訓(xùn)大綱。課程從光學(xué)薄膜的基本原理出發(fā),逐漸深入,內(nèi)容涵蓋了光學(xué)薄膜從設(shè)計到制造所涉及的所有課題,并從項目管理和生產(chǎn)管理的角度對課程進行了完善。 . [DCL  
2.豐富多樣的設(shè)計案例:本課程的教學(xué)重點是利用Macleod軟件來加深對理論知識的理解和掌握,為此我們精選了30份光學(xué)薄膜設(shè)計、分析和制備案例,涵蓋了從紫外到紅外的整個光譜范圍。所有的案例全部來源于工程師在科研生產(chǎn)中遇到的典型問題,極具參考價值。我們也歡迎學(xué)員將自己遇到的問題帶到課堂與我們進行互動交流。 h1@|UxaE#  
3.充滿創(chuàng)新的學(xué)習(xí)體驗:本培訓(xùn)為交互式課程,每一次的課程教學(xué)都是一個唯一的、動態(tài)的過程,使之能適應(yīng)特定群體的能力和興趣。Macleod 軟件最重要的特點是它界面友好,易于上手,因此課程的重心在于學(xué)員的實際操作。課程期間,每一位學(xué)員都會得到課程講師“手把手”的講解,確保滿足每一學(xué)員的特殊要求。 P.Pw .[:3  
4.結(jié)識新的朋友:課程期間,我們會通過舉辦宴會和經(jīng)驗交流會,加強師生間的溝通與聯(lián)系;使學(xué)員與全國充滿智慧、志同道合的朋友們結(jié)識,打開更廣闊的視野。 }MAQhXI^O|  
課程大綱 Bf!i(gM  
1.    Essential Macleod概況及其基本操作 D|m6gP;P  
1.1    Macleod軟件特點介紹 #TZf\0\!  
1.2    程序快速入門 m<)0 XE6w  
1.3    Macleod軟件基本框架及參數(shù)設(shè)置 &EKP93  
1.4    Macleod軟件中的數(shù)據(jù)類型 +shT}$cb1  
1.5    數(shù)據(jù)的輸入與輸出 le*mr0a  
1.6    Plot 、3D Plot與 Table操作技巧 U;Z6o1G  
2.    光學(xué)薄膜基本原理 a7'.*H]  
2.1    介質(zhì)和波 2`>/y  
2.2    垂直入射時的界面和薄膜特性計算 g+Vfd(e  
2.3    傾斜入射時的界面和薄膜特性計算 Nf8."EDUW  
2.4    后表面對光學(xué)薄膜特性的影響 V\^rs41$;  
2.5    光學(xué)薄膜設(shè)計理 YBn"9w\#  
3.    光學(xué)薄膜顏色 ].53t"*  
3.1    顏色 o`S|  
3.2    具有顏色效果的薄膜和最優(yōu)的顏色刺激 !xmvCH=2  
3.3    Macleod軟件的顏色計算功能 jn vJ`7zFP  
3.4    操作案例 lJ.:5$2H  
4.    材料管理 $z,lq#zzl  
4.1    光學(xué)薄膜材料性能及應(yīng)用評述 Dyv 6K_,  
4.2    金屬與介質(zhì)薄膜 ?B ; +,  
4.3    材料模型 `|K30hRp:  
4.4    介質(zhì)薄膜光學(xué)常數(shù)的提取 H.|v ^e  
4.5    金屬薄膜光學(xué)常數(shù)的提取 y1R53u`;L  
4.6基板光學(xué)常數(shù)的提取 .),ql_sXr  
4.7操作案例