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近階段研制精密研磨機，擬用于塑膠鏡片模仁的拋光。研制的過程中，琢磨過拋光的主要工藝因素，記敘如下： CW?Z\ ㈠ 拋光速度 'hs4k|B 光學(xué)冷加工行業(yè)內(nèi)有一觀念：高速拋光高效，表面品質(zhì)一般；低速拋光低效，但可獲得高品質(zhì)表面。于是，從機床到工藝便有了“高拋”“低拋”的區(qū)分。 KU9F HN “睽而知其類，異而知其通。”能溝通高拋低拋二種工藝的是什么因素？當(dāng)然是速度。當(dāng)其他工藝因素適當(dāng)配合時，高拋高效低拋低效無疑是對的，問題是：高拋則表面品質(zhì)一般，低拋則能加工出高品質(zhì)的表面，這一條能成為鐵律嗎？ *K;) ~@n
誠然，一直以來，要加工精準(zhǔn)面形且表面疵病等級高的光學(xué)元件總是采用低拋工藝，當(dāng)拋光高精度平面用分離器時，擺速極慢，主軸轉(zhuǎn)速往往也只有一二十轉(zhuǎn)甚至更低。 9*ZlNZ
實際上，在光學(xué)冷加工以外的研磨領(lǐng)域總能看到這樣的情形：高轉(zhuǎn)速能加工出光滑表面。如金相拋光，轉(zhuǎn)速約1000轉(zhuǎn)；又如磨頭拋光，轉(zhuǎn)速幾千轉(zhuǎn)甚至上萬轉(zhuǎn)，按光學(xué)冷加工的區(qū)分標(biāo)準(zhǔn)，都屬高拋。顯然，反倒是高拋更容易加工出光滑表面。光學(xué)冷加工行業(yè)所以沒有象機械行業(yè)那樣追求高轉(zhuǎn)速，一方面受到面形和表面疵病質(zhì)量指標(biāo)的約束，當(dāng)機床性能不配合時，如面形有跳動，機床有振動等等，轉(zhuǎn)速就受到限制；另一方面，光學(xué)元件的驗收標(biāo)準(zhǔn)，只要感觀上達(dá)到鏡面就行，絕大多數(shù)情況下不會去檢測鏡面的微觀粗糙度。所以，高轉(zhuǎn)速反而成了“吃力不討好”的事情（當(dāng)追求效率時除外）。對此，我們不妨作進(jìn)一步的追問：既便在不追求加工效率的前提下，高轉(zhuǎn)速到底有沒有意義？回答當(dāng)然是肯定的：只有高轉(zhuǎn)速才有可能獲得超光滑表面。光學(xué)冷加工的現(xiàn)狀不檢測表面粗糙度是一回事，不同的研磨速度一定會影響被加工件的表面粗糙度又是另一回事。至于兩者之間的對應(yīng)關(guān)系，有條件的業(yè)內(nèi)人士可以去做個測試，如果有數(shù)據(jù)能證明研磨速度與表面粗糙度Ra之間有可靠的負(fù)相關(guān)關(guān)系，那么，提高研磨速度便可成為光學(xué)冷加工努力的方向，沿著這個方向，高速拋光不僅能實現(xiàn)高效率，同時還可能獲得超光滑表面，進(jìn)而可以提升光學(xué)儀器的成像質(zhì)量。 'g ,h 接下來的問題是：要加工精準(zhǔn)面形且表面疵病等級高的光學(xué)元件，采用高轉(zhuǎn)速是否可行？要回答這個問題，不妨先琢磨一下：一直以來，為什么都選擇低拋工藝？我認(rèn)為主要有這么幾點： #O\as~- 第一，機床精度不夠，旋轉(zhuǎn)時磨盤表面有跳動，不宜高速。 WK(X/!1/k 第二，機床有振動，不宜高速。 x"NQat dq 第三，左右往復(fù)擺動方式有死點，擺動到死點處有沖擊慣性。如果用鐵筆頭給力，由于力點高會加劇沖擊慣性；改用分離器，則可降低給力點，但分離器慣性更大，同樣不宜高擺速。 4d
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