本公司美國光刻圖形發(fā)生器利用光刻正膠或負膠，在感光板上制作用于加工集成電路的高精度、高品質(zhì)掩膜版，也可根據(jù)需求制作優(yōu)質(zhì)的光學(xué)碼盤、碼尺、分劃板、標尺、光柵、鍍盤、鑒別率板等精密光學(xué)零件的母板和任意圖形。 Nuo^+z E  
光刻機性能參數(shù)： l-
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      可加工最小線寬：    直接光刻 2.5 微米；重復(fù)步進  1 微米 1]Lhk?4t  
      最大加工范圍：      152毫米 ×  220毫米 y,V6h*x2  
      定位精度：            0.38微米 |zh