磁控濺射不同厚度銀膜的微結(jié)構(gòu)及其光學(xué)常數(shù) `KgWaf-
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用直流濺射法在室溫 (’ 玻璃基底上制備了 $)!*+—#",)!*+ 范圍內(nèi)不同厚度的 -. 薄膜， 并用 / 射線衍射及計算機輔助優(yōu)化程序對薄膜的微結(jié)構(gòu)和光學(xué)常數(shù)進行了測試分析0 結(jié)構(gòu)分析表明： 制備的 -. 薄膜均呈多晶狀態(tài)，晶體結(jié)構(gòu)均呈面心立方； 隨著膜厚的增加， 薄膜的平均晶粒尺寸逐漸增大， 晶面間距逐漸減小0 計算機輔助優(yōu)化編程計算的薄膜光學(xué)常數(shù)分析表明： 在波長 %%"*+ 處， 當(dāng)膜厚小于 #,)%*+ 時， 隨著膜厚的增加， 折射率 快速減小，消光系數(shù) 則快速增大； 當(dāng)膜厚大于 #,)%*+ 時， 和 逐漸趨于穩(wěn)定 9aR-kcvJIJ
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關(guān)鍵詞：直流濺射鍍膜，銀膜，微結(jié)構(gòu)，光學(xué)常數(shù)
