近日,完成了成像和非成像方面完整的
雜散光實(shí)例分析,并總結(jié)如下。下文僅是一家之言,僅供大家參考。謝絕轉(zhuǎn)載。
%D1 |0v8} EMQGP<[ 雜散光(Stray light)是
光學(xué)系統(tǒng)中不受歡迎的
光線。成像系統(tǒng)和非成像系統(tǒng)都存在雜散光問題,甚至人眼都有這個(gè)問題。
3>M%?d VK286[[fv 雜散光主要表現(xiàn)形式有:
g&z8t;@ 鬼像(Ghost):由光學(xué)表面的多次反射光形成。
V^Y'!w\LGI 散射光線。來源自光學(xué)元件,機(jī)械表面(主要來源):
鏡頭外殼,固定支架,遮光罩,攔光擋片等。
*,& 2?E8 遮光罩使用不當(dāng)出現(xiàn)的漏光。
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bfe_k( 6~c#G{kc 雜散光的其它來源:
v|\3FEu@ 衍射:由遮光罩邊緣引起的衍射;另外,由于衍射元件通常只處理一階衍射,其余階就成為雜散光的來源了。Lyout光欄是天文望遠(yuǎn)鏡中消除衍射效應(yīng)的典型器件。
~-R%m cX7 O*5C 熱效應(yīng):探測器因環(huán)境因素,或機(jī)械結(jié)構(gòu)和系統(tǒng)硬件引起的熱效應(yīng)而產(chǎn)生雜散信號。
];xDXQd ;NU-\<Q{ 雜光(Veiling Glare)是到達(dá)成像系統(tǒng)傳感器的雜散光,會導(dǎo)致成像系統(tǒng)性能的衰減。雜光主要有兩種成分:散射光和鬼像。一次反射鬼像影響最大的是高功率
激光系統(tǒng),二次反射鬼像主要影響成像系統(tǒng)和紅外系統(tǒng)。鬼像又分鬼像焦點(diǎn)像(ghost focus images)和鬼像光瞳像(Ghost pupil images)。前者是由物面形成的,后者由光瞳形成的。由于光瞳是系統(tǒng)全視場能量積分處,所以其影響可能也會很大。對于高功率激光系統(tǒng)而言,除了要避免成像光路形成的內(nèi)焦點(diǎn),還要避免鬼像光路形成的鬼像內(nèi)焦點(diǎn)。
@,Z0u2WLl6 .DNPL5[v 鬼像分析可分為軸上點(diǎn)近軸光路分析和
照明方式的分析。前者就是用成像
軟件進(jìn)行鬼像光路分析完成。照明方式分析,實(shí)際就是采用商用照明軟件所使用的“二叉樹”(分裂光線)方法完成。一般而言,應(yīng)用成像軟件進(jìn)行鬼像光路分析,還可以優(yōu)化
光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu),比如:
ZEMAX、CODE V;照明可以完成雜光系數(shù)分析,當(dāng)然,有一些照明軟件也可以優(yōu)化機(jī)械結(jié)構(gòu),比如LT、ASAP。
plL|Ubn &^2SdF 幾種消雜光的辦法如下:
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