有三個問題： D4'? V Iz  
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1.PST是為離軸角為θ的點光源經光學系統(tǒng)在像面上產生的輻射照度E（ θ） 與該點光源位于軸上時產生的輻射照度E（０)的比值,這個PST是怎么表示系統(tǒng)的消光能力的？？是不是假設了對于軸上點沒有雜光？？但是實際上軸上點不可能沒有雜光的��？ #2ZXYH}  
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2.PST是E(θ）/E（0）,對應到Tracepro里面irradiation/illumination map里面顯示的AVE在不同θ角下的比值？？ n{BC m %  
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3。TP追跡的時候，計算E（0）和E(θ）時，是不是要時刻保證光線全部充滿第一片鏡片的口徑？如果是的話，就需要光源的口徑有適當的變化，光源尺寸變化會導致能量的分布變化，從而帶來模擬的誤差，正確的方法應該是什么呢？？ d@At-Z~M  
_$ixE~w-!  
謝謝，希望指點！

頂一下，希望高手指點一二！~

第一 PST是為離軸角為θ的點光源經光學系統(tǒng)在像面上產生的輻射照度E（ θ） 與該點光源位于軸上時產生的輻射照度E（０)的比值。這一理解是對的，實際的實驗測量雜光也是采用這種方法。軸上同樣也有雜光，這個比值只起到歸一化的左右。 NWAF4i
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第二 這一說法是對的。 (Wx)YI  
第三 點光源是發(fā)光球體。只有電源距離鏡頭的變化會影響系統(tǒng)的雜光系數，其他情況不會。

對于照相物鏡來說，點源實際上就是平行光，所以E（ θ）應該是以一定角度入射的平行光？~

我現(xiàn)在唯一不明白就是計算PST的時候，光源是采用平行光，還是與光軸相對于入瞳位置成一定夾角的點光源？~希望指點！

回帖賺積分的真討厭~發(fā)個帖子很快就給弄到后面去了~想賺積分去灌水的部分啊~！

同樣在搞雜散光分析，進來學習。

第三、可以考慮用Grid Source放在第一片鏡片前面，尺寸約等於第一片鏡片，在Beam Setup的地方修改Beam Orientation Method為Direction Vectors，Normal Vector用=tan(30*pi/180)修改入射光角度，這樣就不用一直修改光源尺寸了

用點光源的話，只有在點光源離第一片鏡片很遠的時候才"近似"平行光，點光源位置不好決定 _}&]`,s>  
而且還要動用Important Sampling，小麻煩 p4'"Wk8  
用Grid Source可以方便使用Macro Scheme或DDE修改入射角度及收集Flux數據，工程師就可以不用在電腦邊苦等了 W/>?1+r.Z  

都牛，我聽暈啦