12月8日消息，光學、電子和能源應用領域高級產(chǎn)品與解決方案的領先開發(fā)商和制造商NanoGram公司今日宣布，已與東京電子有限公司（Tokyo Electron, Ltd.）簽署聯(lián)合開發(fā)協(xié)議，擴大兩者之間的合作關系，使后者從戰(zhàn)略投資人發(fā)展到技術和市場開發(fā)合作伙伴。 sLx!Do$'  
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該聯(lián)合開發(fā)協(xié)議將專注于開發(fā)先進的薄膜沉積工具，該工具采用NanoGram已獲專利的激光反應沉積(LRD™)硅處理技術。該平臺將以快速發(fā)展的薄膜光電市場為目標，Prometheus Institute預計該市場到2012年將增長到整個光電市場的40%。NanoGram的LRD工藝具有明顯的速度優(yōu)勢，沉積非晶和微晶硅的速度比傳統(tǒng)的CVD工藝明顯更快。此項開發(fā)工作還有望與NanoGram突破性的低成本多晶SilFoil™ PV模塊業(yè)務形成互補。 t7VX