名稱：釔（Y） W
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三氧化二釔，（Y2O3）使用電子槍蒸鍍，該材料性能隨膜厚而變化，在500nm時折射率約為1.8.用作鋁保護膜其極受歡迎,特別相對于800—12000nm區(qū)域高入射角而言,可用作眼鏡保護膜,且24小時暴露于濕氣中.一般為顆粒狀和片狀. _3G;-iNX;  
透光范圍(nm) 折射率(N)500nm 蒸發(fā)溫度（℃） 蒸發(fā)源 應用 蒸氣成分 "ZuhN(-`  
250--8000 1．79 2300--2500 電子槍 防反膜，鋁保護膜 }YPW@g  
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名稱：二氧化鈰（CeO2） M!KHBr  
使用高密度的鎢舟皿(較早使用)蒸發(fā),在200℃的基板上蒸著二氧化鈰,得到一個約為2.2的折射率,在大約3000nm有一吸收帶其折射率隨基板溫度的變化而發(fā)生顯著變化,在300℃基板500nm區(qū)域折射率為2.45,在波長短過400nm時有吸收,傳統(tǒng)方法蒸發(fā)缺乏緊密性,用氧離子助鍍可取得n=2.35(500nm)的低吸收性薄膜,一般為顆粒狀,還可用一增透膜和濾光片等. y-Xd~<*Ia  
透光范圍(nm) 折射率(N)500nm 蒸發(fā)溫度（℃） 蒸發(fā)源 應用 雜氣排放量 %j '_I\  
400--16000 2.35 約2000 電子槍 防反膜， 多 co <ATx  
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名稱：氧化鎂(MgO) .iDxq8l  
必須使用電子槍蒸發(fā)因該材料升華,堅硬耐久且有良好的紫外線(UV)穿透性,250nm時n=1.86, 190nm時n=2.06.    166nm時K值為0.1, n=2.65.可用作紫外線薄膜材料.MGO/MGF2膜堆從200nm---400nm區(qū)域透過性良好,但膜層被限制在60層以內(由于膜應力)500nm時環(huán)境基板上得到n=1.70.由于大氣CO2的干擾,MGO暴露表面形成一模糊的淺藍的散射表層,可成功使用傳統(tǒng)的MHL折射率3層AR膜(MgO/CeO2/MgF2). je9eJUKE  
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名稱：硫化鋅(ZnS) K2=`.  
折射率為2.35,  400—13000nm的透光范圍,具有良好的應力和良好的環(huán)境耐久性, ZnS在高溫蒸著時極易升華,這樣在需要的膜層附著之前它先在基板上形成一無吸附性膜層,因此需要徹底清爐,并且在最高溫度下烘干,花數(shù)小時才能把鋅的不良效果消除.HASS等人稱紫外線(UV)對ZNS有較大的影響,由于紫外線在大氣中導致15—20nm厚的硫化鋅膜層完全轉變成氧化鋅(ZNO). &3jq'@6  
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