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ITO蝕刻劑（/養(yǎng)化錫/銦養(yǎng)化錫蝕刻劑 TE-100） z'e1"Y.  
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氧化錫/銦氧化錫蝕刻劑TE-100 是應(yīng)用于微電子行業(yè)的氧化錫/銦氧化錫層的選擇性蝕刻劑，可高效的對(duì)陶瓷，絕緣層，半導(dǎo)體和多種金屬底層上的氧化錫/銦氧化錫沉淀膜進(jìn)行蝕刻，具有邊界清晰，蝕刻速度可控的特性，與正負(fù)性光刻膠良好兼容。TE-100 不可用于含鎳，銅，鎳锘合金和鋁的材質(zhì)。 TnxU/)  
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特性： sZEgsrJh  
外觀--深琥珀色 ^#7viZ*  
蝕刻率（室溫25°C）--15-20 &Aring; / sec（浸沒(méi)）