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關(guān)于舉辦光學(xué)設(shè)計(jì)與鍍膜技術(shù)培訓(xùn)班的通知

發(fā)布:zhuzi2659 2008-06-30 16:13 閱讀:4555
關(guān)于舉辦光學(xué)設(shè)計(jì)與鍍膜技術(shù)培訓(xùn)班的通知 .X^43 q  
一、培訓(xùn)目的 t%:G|n Sz  
隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展和進(jìn)步,光電儀器對光學(xué)系統(tǒng)及光學(xué)鏡頭的技術(shù)要求也越來越高,尤其是近幾年來光電技術(shù)的飛速發(fā)展,以及光電接收器CCD和CMOS的廣泛應(yīng)用,對光學(xué)設(shè)計(jì)提出了更高的要求。而目前國內(nèi)光學(xué)設(shè)計(jì)專業(yè)人才又比較匱乏。為了提高我國光學(xué)設(shè)計(jì)工程師的設(shè)計(jì)水平、適應(yīng)我國光電儀器行業(yè)飛速發(fā)展的需要,培養(yǎng)更多更好的光學(xué)設(shè)計(jì)專業(yè)人才,主辦單位計(jì)劃舉辦相關(guān)光學(xué)技術(shù)培訓(xùn)班。 Uqr{,-]5v  
本培訓(xùn)班秉承以實(shí)際應(yīng)用為主的課程設(shè)計(jì)思路,讓學(xué)員在參加培訓(xùn)后學(xué)有所成,切實(shí)解決光學(xué)研究和產(chǎn)品生產(chǎn)過程中可能出現(xiàn)的相關(guān)問題。同時(shí)兼顧光學(xué)技術(shù)中的學(xué)術(shù)發(fā)展,不但適合相關(guān)企事業(yè)單位生產(chǎn)一線技術(shù)人員的工作需求,同樣也適宜于從事研發(fā)工作的科研人員及學(xué)生的學(xué)習(xí)要求。 Stt* 1gT  
二、培訓(xùn)方式與師資 )6g&v'dq  
通過講課、學(xué)術(shù)沙龍等形式,實(shí)現(xiàn)師生互動(dòng)。學(xué)員報(bào)到后,提前發(fā)放課程設(shè)計(jì)實(shí)例,學(xué)員預(yù)先自行設(shè)計(jì),學(xué)習(xí)期間由老師進(jìn)一步指導(dǎo)解決實(shí)際問題。 {n6\g]p3  
為了保障學(xué)習(xí)班的授課質(zhì)量和培訓(xùn)效果,組織單位聘請了國內(nèi)光學(xué)設(shè)計(jì)和鍍膜領(lǐng)域內(nèi)著名專家和享有盛譽(yù)的教授進(jìn)行授課。 zG<0CZQ8  
三、培訓(xùn)對象 TRo4I{L6S  
從事應(yīng)用光學(xué)和光機(jī)設(shè)計(jì)領(lǐng)域的研究和技術(shù)開發(fā)人員、光電企業(yè)光學(xué)項(xiàng)目工程師、高校及研究所光學(xué)項(xiàng)目負(fù)責(zé)人、以及光學(xué)愛好者等。 @E YK(QS-  
四、培訓(xùn)內(nèi)容 tbY  SK  
針對現(xiàn)階段光學(xué)領(lǐng)域的實(shí)際情況,主要進(jìn)行光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)、光學(xué)鍍膜與膜系設(shè)計(jì)、以及光學(xué)零件加工與檢測等方面相關(guān)光學(xué)技術(shù)的培訓(xùn)。其詳細(xì)培訓(xùn)內(nèi)容為: [{?;c+[  
a)光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì) j $KM9  
結(jié)合光學(xué)設(shè)計(jì)中的基本設(shè)計(jì)理念,闡述光學(xué)系統(tǒng)的基本要求及指標(biāo);重點(diǎn)介紹光學(xué)設(shè)計(jì)的原理和方法;詳細(xì)分析微光光學(xué)系統(tǒng)、紅外系統(tǒng)設(shè)計(jì)、非球面光學(xué)系統(tǒng)、衍射光學(xué)元件、變倍光學(xué)系統(tǒng)、數(shù)碼鏡頭等光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)方法和過程。結(jié)合Zemax軟件講授基本光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)、公差制定及光學(xué)制圖,全面系統(tǒng)地講授Zemax軟件的功能及使用經(jīng)驗(yàn)和技巧; Z+Xc1W^  
b)光學(xué)鍍膜與膜系設(shè)計(jì) r.9 $y/5  
光學(xué)薄膜一般性質(zhì)出發(fā),講述光學(xué)薄膜在光學(xué)設(shè)計(jì)系統(tǒng)中的應(yīng)用,重點(diǎn)介紹光學(xué)薄膜制造方法和光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)方法。 Y6+k9$h  
在光學(xué)薄膜制造與檢測方面,重點(diǎn)介紹熱蒸發(fā)技術(shù)、磁控濺射技術(shù)、薄膜參數(shù)測試技術(shù)的技術(shù)要點(diǎn)和國內(nèi)外新進(jìn)展。 _En]@xK3&  
在光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)方法方面,重點(diǎn)介紹光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)原理與方法、典型光學(xué)設(shè)計(jì)軟件功能的介紹、光學(xué)薄膜的基本設(shè)計(jì)方法、特殊薄膜體系的設(shè)計(jì)方法薄膜厚度的準(zhǔn)確監(jiān)控與誤差分析及其生產(chǎn)數(shù)據(jù)庫的建立與可靠性分析。 gn364U a  
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五、培訓(xùn)費(fèi)用及時(shí)間安排 C_C$5[~-:  
標(biāo)準(zhǔn)培訓(xùn)費(fèi)2300元/人,參辦單位人員及持有效證件的學(xué)生1800元/人。2008年6月30日以前注冊優(yōu)惠:費(fèi)用2000元/人,參辦單位人員及持有效證件學(xué)生1500元/人。如果只選擇其中的一門課程,費(fèi)用規(guī)定如下:光學(xué)設(shè)計(jì)1500元/人;光學(xué)鍍膜與膜系設(shè)計(jì)1500元/人。培訓(xùn)費(fèi)包括授課費(fèi)、場租費(fèi)、茶休費(fèi)、參觀費(fèi)、晚宴、稅點(diǎn)、合影照片等。 [1mIdwS  
食宿可以統(tǒng)一安排,費(fèi)用自理。推薦西安工業(yè)大學(xué)培訓(xùn)中心,雙人標(biāo)間120元/間/晚,60元/床/晚。 A=W5W5l(>  
報(bào)到時(shí)間:2008.7.13全天 FRc  |D  
培訓(xùn)時(shí)間:2008.7.14-2008.7.18,共5天 A xRl*B  
培訓(xùn)地點(diǎn):西安市金花北路4號,西安工業(yè)大學(xué)培訓(xùn)中心。 q;KshpfRMD  
回執(zhí)(見附頁1)請于2008年7月5日之前Email(cpom@yahoo.cn)、傳真或者郵寄給主辦單位。名額有限,請?zhí)嵩鐖?bào)名。 /O+e#z2f<  
六、主辦/協(xié)辦單位/組織者 'H|;%J6d>  
1、主辦與協(xié)辦單位 3b,=  
西安工業(yè)大學(xué) O.dux5lfBd  
陜西省光學(xué)學(xué)會(huì) P&h/IBA_  
中科院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所 JE/l#Q!  
兵器工業(yè)應(yīng)用光學(xué)研究所 jt/l,=9YK  
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