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Zemax光學(xué)設(shè)計從入門到精通	Zemax光學(xué)設(shè)計從基礎(chǔ)到實踐	成像衍射光學(xué)元件設(shè)計及應(yīng)用	現(xiàn)代光學(xué)與光子學(xué)技術(shù)
訊技光電:VirtualLab Fusion獨家供應(yīng)商	微小光學(xué)與微透鏡陣列	光學(xué)設(shè)計與光學(xué)元件	計算光學(xué)帶來的成像革命

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2008-03-12

關(guān)鍵詞：激光雕刻印章防偽技術(shù)

　　印章防偽應(yīng)從兩個方面考慮：一是印章的不可偽造性；二是印文的可鑒別性。解決不可偽造問題需從印章材料、制作工藝、制作設(shè)備等方面著手(加強(qiáng)管理另作專題論述)；而印文的可鑒別問題要從印油、圖像識別、建立印章檔案庫等方面努力。