1. 打底層最好用TiO2 qf*e2"~v  
2. 機(jī)器不要加溫，把能量放到IBS這邊； MC_i"P6a  
3. IBS的能量要有一個(gè)梯度 *#Iqz9X.Y3  
4. 整個(gè)鍍膜后的溫度要用測(cè)溫紙測(cè)一下，以此來(lái)判斷你IBS的energy是否合理

TiO2和SiO2薄膜應(yīng)力的產(chǎn)生機(jī)理及實(shí)驗(yàn)探索.zip (144 K) 下载次数:82 e ls&_BPE  
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膜裂一般是由應(yīng)力產(chǎn)生的，一般來(lái)講，張力會(huì)造成膜裂。 S %(R9N|  
而在常溫下，SiO2表現(xiàn)為張力，TiO2表現(xiàn)為壓力。 W C3b_ia  
所以按原理來(lái)講，第一層鍍TiO2對(duì)膜裂的改善會(huì)比較好。 |dqv
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而且從附件論文的數(shù)據(jù)來(lái)看，開(kāi)IAD比不開(kāi)要好。 nEh^{6  
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但是如果膜裂是由吸水造成的，那又是另外一種情況。 o[>p  
最好用鹵素?zé)艏訜嵋幌�，鍍膜前再離子源打一下做一下表面的清潔。 &$.