基底對光學(xué)薄膜弱吸收測量的影響

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主要鍍膜材料及其性能和用途 B<oBo&uA  
名稱  　　折射率  　　透光范圍  　　蒸發(fā)溫度(℃)  　　　蒸發(fā)源  　　　　　　應(yīng)用 FP>.@ Y  
三氧化二鋁  1.62/550nm  200~5000  2000-2200  　　　電子槍  　增透膜、多層膜 YuFR*W;$  
氟化鈰  　　1.63/500nm  300~5000  1429  　　　鉬，鉭，電子槍  增透膜、多層膜 ]'5 G/H5?;  
氧化鈰  　2.35/500nm  400~16000  1950  　　　　　　電子槍  　　　增透膜 Er@OmNT  
冰晶石  　1.33/500nm  250~14000  1000  　鉬，鉭，電子槍  　　　　　增透膜 Q?/qQ}nNw  
氧化鉿  　1.95/500nm  230~7000  2500  　　電子槍  　　　紫外-近紅外多層膜 "WZ