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    [技術(shù)]微透鏡陣列后光傳播的研究 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 01-08
    1. 摘要 b|U3\Fmc  
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    隨著光學(xué)投影系統(tǒng)和激光材料加工單元等現(xiàn)代技術(shù)的發(fā)展，對光學(xué)器件的專業(yè)化要求越來越高。微透鏡陣列正是這些領(lǐng)域中一種常用元件。為了充分了解這些元件的光學(xué)特性，有必要對微透鏡陣列后各個位置的光傳播進(jìn)行模擬。在這個應(yīng)用案例中，我們將分別研究元件后近場、焦區(qū)以及遠(yuǎn)場特性。 #rx@ 2zi  
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    2. 系統(tǒng)配置 7.B]B,]  
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    3. 系統(tǒng)建模模塊-組件 HNV"'p;  
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    4. 總結(jié)—組件…… y_Nn%(j  
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