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摘要 cpl Ny?UIC lX%-oRQ/os
仿真技術(shù)的主要作用之一是提供一個(gè)平臺(tái)，以便在系統(tǒng)制造之前研究系統(tǒng)的性能，以便盡可能多地預(yù)防潛在的缺陷。雜散光是影響系統(tǒng)性能的最常見(jiàn)現(xiàn)象之一，雜散光可能有多個(gè)來(lái)源，其中包括系統(tǒng)中的內(nèi)部偽反射。在這個(gè)用例中，我們分析了高Na激光二極管準(zhǔn)直透鏡系統(tǒng)中這種反射的存在，我們模擬了產(chǎn)生的鬼像對(duì)探測(cè)場(chǎng)的影響(由主準(zhǔn)直光束的干涉引起的同心環(huán)圖案和由雜散光產(chǎn)生的二次發(fā)散)，并確定需要在透鏡系統(tǒng)的關(guān)鍵表面上涂上抗反射涂層。 @Co6$< m_Pk$Vwx  I{0c nq/ 4lR+nmAZ 建模任務(wù) y{&%]Fq
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