簡(jiǎn)介:
s (l+{b & A5(kOtgiT 本文的目的是介紹FRED的
材料性質(zhì)方面一些高級(jí)的設(shè)定,這些設(shè)定共分成以下幾個(gè)部份。
@U7U?.p 雙折射
晶體和偏振光干涉
mP`,I"u
光源偏振設(shè)置
AmUe0CQ:k' 雙折射材料方向和其他設(shè)定
/9t*CEu\ 干涉結(jié)果和
光線性質(zhì)查看
Qe'PAN=B 漸變折射率(GRIN)材料
uWM4O@Qn)d 腳本設(shè)置漸變折射率材料
dUBVp 9PB 定性
模擬結(jié)果
d1C/u@8^ "N=&4<]I5 雙折射晶體和偏振光干涉 -NI@xJO4(; xLGTnMYd 偏振光干涉現(xiàn)象在實(shí)際中有很多應(yīng)用,這里要模擬的是一種典型的雙折射干涉實(shí)驗(yàn),設(shè)置如下圖所示:左側(cè)是偏振光源,偏振方向是在xy平面且與x軸夾角45度,所有光線的反向延長(zhǎng)線指向一點(diǎn)。接下來(lái)光線經(jīng)過方解石平板,厚2mm,光軸方向沿z 軸。然后光線通過偏振片,偏振片方向與光源方向垂直(xy 平面,與x 夾角-45度),偏振片是通過設(shè)置偏振
鍍膜來(lái)實(shí)現(xiàn)的。最右邊是接收分析面,光線在這里停止,用來(lái)計(jì)算光強(qiáng)。
ul]m>W 圖1. 系統(tǒng)設(shè)置
r;5 AY r&LCoe'\{i 下面設(shè)置雙折射材料。在材料文件夾下右擊,選擇新建材料(create a new material),選擇類型為取樣雙折射材料或旋光性物質(zhì)(sampled birefringent and/or optically active material),
波長(zhǎng)設(shè)置為0.5875618,o光和e光的折射率分別設(shè)為1.66 和 1.49,光軸方向設(shè)置為z軸(0,0,1)。
}J4BxBuV8 圖2. 雙折射材料
=qVAvo' 8k*k 偏振片是通過偏振鍍膜來(lái)實(shí)現(xiàn)的,如下新建偏振鍍膜。右擊鍍膜文件夾,新建鍍膜,類型選擇偏振/波片鍍膜瓊斯矩陣(Polarizer/Waveplate Coating jones matrix),然后默認(rèn)的就是沿x軸偏振鍍膜。
J}93u(T5 \f<thd*bC 圖3. 偏振鍍膜
sIQMUC[! _YD<Q@ 右擊光源文件夾并選擇新建詳細(xì)光源。命名為Diverging beam,光源的類型選擇為六邊形平面,方向選擇從某點(diǎn)發(fā)出,并且把這一點(diǎn)選在z軸負(fù)軸的某一點(diǎn)(0,0,-20)。設(shè)置光源設(shè)為相干光,在偏振(polarization)選項(xiàng)卡里設(shè)置光源偏振類型和方向?yàn)榫性偏振,方向?yàn)閤軸方向(下面通過把光源沿z軸選擇-45度來(lái)調(diào)整偏振方向,當(dāng)然也可以在這里設(shè)置偏振方向?yàn)槟骋粋(gè)特定點(diǎn)方向,但是用前一種方法在需要改變光源偏振方向時(shí)會(huì)更方便一些)。然后設(shè)置光源位置和旋轉(zhuǎn),將光源位置設(shè)置在(0,0,-3),沿z軸選擇-45度。
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l N-_| %C-. 圖4. 光源方向
U iPVZ@? 圖5. 光源相干性設(shè)置
dnhpWVhn 圖6. 光源偏振設(shè)置
圖7. 光源位置和旋轉(zhuǎn)
!Dhfr{ ;_;H(%uY 在幾何
結(jié)構(gòu)文件夾(geomertry)下右擊,選擇新建
透鏡(lens)。如下如設(shè)置半徑10,厚度2,雙面曲率為0,在原點(diǎn)處,并且把方解石材料的套用在該透鏡上。如下圖所示。
~"hAb2 圖8. 新建方解石平板
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