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    [技術(shù)]設(shè)計(jì)和分析GRIN擴(kuò)散器 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2024-10-30
    1.建模任務(wù) s:%>H|-  
    4WLB,<b}  
     這個(gè)案例將演示設(shè)計(jì)與分析一個(gè)折射率調(diào)制的擴(kuò)散器圖層以生成Top Hat圖案。 &kP>qTI^p~  
     設(shè)計(jì)包括兩個(gè)步驟:  BzDS  
    - 設(shè)計(jì)相位函數(shù)來(lái)生成一個(gè)角譜Top Hat分布。 Q9( eH2=  
    - 基于相位調(diào)制來(lái)計(jì)算對(duì)應(yīng)的折射率調(diào)制。  A/9 w