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上海光機(jī)所在光學(xué)元件多表面面形測(cè)量方面取得進(jìn)展

發(fā)布:cyqdesign 2024-08-20 16:23 閱讀:411

近期,中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所高功率激光元件技術(shù)與工程部在光學(xué)元件多表面面形測(cè)量研究方面取得新進(jìn)展,相關(guān)成果以“Surface profile measurement of transparent parallel plates by multi-scale analysis phase-shifting interferometry (MAPSI)”為題發(fā)表于Optics and Lasers in Engineering。

在光學(xué)元件的多表面面形測(cè)量中,傳統(tǒng)的傅里葉相移干涉術(shù)(FTPSI,ZygoCorp.)主要通過(guò)利用傅立葉變換精確地重建光學(xué)表面輪廓。該測(cè)量方式也存在諸多局限,如對(duì)激光器指標(biāo)的要求較高,大量干涉圖的長(zhǎng)時(shí)間采集使測(cè)量結(jié)果受環(huán)境振動(dòng)影響較大,需要用戶(hù)輸入精確腔長(zhǎng)等問(wèn)題。

圖1.配備MAPSI的恒邁光學(xué)4英寸波長(zhǎng)調(diào)諧移相干涉儀

圖2.MAPSI在不同腔長(zhǎng)下的測(cè)量結(jié)果對(duì)比

針對(duì)這些問(wèn)題,研究人員提出的多尺度分析相移干涉術(shù)(Multi-scaleAnalysis Phase-shifting Interferometry,MAPSI)展現(xiàn)出了出色的性能。該技術(shù)的核心在于通過(guò)精心設(shè)計(jì)的移相步長(zhǎng)和采樣數(shù),在波長(zhǎng)調(diào)諧移相期間實(shí)現(xiàn)精確的頻率分析和高精度波前重建,有效避免了傳統(tǒng)多表面面形干涉測(cè)試中常見(jiàn)的采樣不足和頻譜移動(dòng)問(wèn)題。實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示,與FTPSI相比,MAPSI僅需更少的圖像采樣(約為FTPSI的1/6~1/4),即可實(shí)現(xiàn)波前重構(gòu)的高測(cè)量重復(fù)性。其PV測(cè)量重復(fù)性和RMS測(cè)量重復(fù)性分別優(yōu)于0.055λ和0.012λ。MAPSI不僅顯著降低了對(duì)激光器調(diào)諧范圍的要求,減少了干涉圖的采集數(shù)量,而且其測(cè)量結(jié)果與用戶(hù)輸入的腔長(zhǎng)準(zhǔn)確性無(wú)關(guān),極大地提高了測(cè)量的便捷性。該工作在光學(xué)元件多表面面形測(cè)量中具有重要意義。

相關(guān)鏈接:https://doi.org/10.1016/j.optlaseng.2024.108432

關(guān)鍵詞: 光學(xué)元件面形
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最新評(píng)論

tassy 2024-08-21 00:47
干涉圖的長(zhǎng)時(shí)間采集使測(cè)量結(jié)果受環(huán)境振動(dòng)影響較大。
phisfor 2024-08-21 06:45
上海光機(jī)所在光學(xué)元件多表面面形測(cè)量方面取得進(jìn)展
雨后無(wú)文 2024-08-21 08:25
上海光機(jī)所在光學(xué)元件多表面面形測(cè)量方面取得進(jìn)展
willh 2024-08-21 08:33
干涉圖的長(zhǎng)時(shí)間采集使測(cè)量結(jié)果受環(huán)境振動(dòng)影響較大。
bairuizheng 2024-08-21 09:04
通過(guò)精心設(shè)計(jì)的移相步長(zhǎng)和采樣數(shù),在波長(zhǎng)調(diào)諧移相期間實(shí)現(xiàn)精確的頻率分析和高精度波前重建,有效避免了傳統(tǒng)多表面面形干涉測(cè)試中常見(jiàn)的采樣不足和頻譜移動(dòng)問(wèn)題。
liulin666 2024-08-21 09:09
海光機(jī)所在光學(xué)元件多表面面形測(cè)量方面取得進(jìn)展
churuiwei 2024-08-21 09:12
中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所高功率激光元件技術(shù)與工程部在光學(xué)元件多表面面形測(cè)量研究方面取得新進(jìn)展
liu.wade 2024-08-21 09:29
上海光機(jī)所在光學(xué)元件多表面面形測(cè)量方面取得進(jìn)展
sgsmta 2024-08-21 09:51
光學(xué)元件多表面面形測(cè)量
祖?zhèn)骼现嗅t(yī) 2024-08-21 09:59
上海光機(jī)所在光學(xué)元件多表面面形測(cè)量方面取得進(jìn)展
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