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摘要 Gk~l,wV> (*l2('e#@ 高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對(duì)這種鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析非常方便。通過(guò)場(chǎng)追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。 N
b3$4(F { ,O`rW_eS  ecH/Wz1 A~-#@Z 建模任務(wù) 2Eh@e([PMs :,*eX' fH  HW 7FP]NH 概觀
YRB%:D@u ACBQ3  VTe.M[: 光線追跡仿真 I^Qx/uTKw heD,& OX •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。 =g@9>3~{! q"aPJ0ni'
•點(diǎn)擊Go！ I>w^2 (y
•獲得3D光線追跡結(jié)果。 iH)Nk^
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