在
衍射光學中,當周期性
結構被準直光照射時,可以觀察到在物體后面周期性距離處形成的周期性結構的圖像。這就是眾所周知的 Talbot 效應(用所謂的 Talbot 距離來描述周期性間隔),它已經(jīng)在例如光刻中得到了常規(guī)應用。
wf]?:'} f"j9C%'* 利用快速
物理光學建模和設計軟件
VirtualLab Fusion的場跟蹤技術,可以充分研究這種效應及其應用。請看下面的例子,在這些例子中,我們用線性和交叉圖案演示Talbot效應的基本
原理,并更仔細地研究特定的光刻應用,以產(chǎn)生
納米結構。
Q
Kr/ ElB[k< 圓錐相位掩模版的泰伯成像 FI?J8a
&@CUxK 在VirtualLab Fusion中對帶有一層圓錐體的相位掩模板進行了嚴格的建模。檢測到不同的Talbot圖像,其中柱圖案在主圖像平面中再現(xiàn),而孔圖案在次圖像平面中再現(xiàn)。
\a|~#N3? w5PscEc 泰伯效應的建模 h~9P34m
Ot\[Ya'' 我們演示了Talbot效應的建模,Talbot效應是一種眾所周知的來自周期結構(如
光柵)的近場衍射效應。
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